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| 工藝原理 |
在碳載型催化劑作用下,，氮?dú)庵械臍堁鹾痛呋瘎┍旧硭峁┑奶及l(fā)生反應(yīng),，而除去氮?dú)庵械难�,。反�?yīng)式為：C +〇2 = C02 |
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| 適用范圍 |
適用于高純度氮?dú)庥脩簦貏e適用于磁性材料,，電子行業(yè) 等對(duì)氧,、氫有嚴(yán)格要求的工藝,。
氮?dú)饧兌龋?9.9995% (〇2≤5ppm、C〇2≤5ppm)
處理氣量：10〜500Nm3/h 原料氮?dú)饧兌龋?gt;99.9%
露點(diǎn)：<-96°C 產(chǎn)品氮?dú)獬隹趬毫Γ?.1〜0.6Mpa |
| SL-QC型加碳脫氧系列技術(shù)參數(shù)表 |
| 型號(hào)規(guī)格 |
SL-QC5 |
SL-QC10 |
SL-QC30 |
SL-QC50 |
SL-QC100 |
SL-QC200 |
SL-QC300 |
SL-QC400 |
SL-QC500 |
| 處理氣量 (Nm3/h) |
5 |
10 |
30 |
50 |
100 |
200 |
300 |
400 |
500 |
含氧量
（％) |
= 0.5 |
= 0.5 |
= 0.5 |
= 0.5 |
= 0.5 |
= 0.5 |
= 0.5 |
= 0.5 |
= 0.5 |
原料氣普氮
露點(diǎn)（°C ) |
=-30 |
=-30 |
=-30 |
=-30 |
=-30 |
=-30 |
=-30 |
=-30 |
=-30 |
| 含氧量（ppm) |
=5 |
=5 |
=5 |
=5 |
=5 |
=5 |
=5 |
=5 |
=5 |
凈化后高純度
露點(diǎn)（°C ) |
-60 |
-60 |
-60 |
-60 |
-60 |
-60 |
-60 |
-60 |
-60 |
| 操作壓力 (Mpa ) |
=0. 6 |
=0. 6 |
=0. 6 |
=0. 6 |
=0. 6 |
=0. 6 |
=0. 6 |
=0. 6 |
=0. 6 |
反應(yīng)器溫
度（°C） |
300~350 |
300〜350 |
300~350 |
300~350 |
300~350 |
300~350 |
300~350 |
300~350 |
300~350 |
| 吸附塔溫 度（°C） |
350 |
350 |
350 |
350 |
350 |
350 |
350 |
350 |
350 |
| 電耗（kw） |
4.8 |
6.8 |
10.5 |
15 |
30 |
50 |
60 |
80 |
100 |
| 脫氧劑容量（kg） |
10 |
30 |
80 |
100 |
200 |
260 |
380 |
480 |
520 |
外形尺寸（m）
（LxWxH） |
0. 8x0. 5
xl. 5 |
1.2x0. 8 x2. 4 |
1. 5x0. 8
x3. 0 |
2. 5x1. 5
x3. 0 |
3. 0x2. 0
x4. 0 |
3. 0x2. 5
x4. 0 |
3.2x2.5
x4. 5 |
3. 4x2. 5
x4. 6 |
3. 6x2. 5
x4. 6 | |
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